Strukturdannelse
Emneord og anvendelser
Emneord
Nano- og mikrofremstilling, elektronstrålelitografi, fokuseret ionstrålelitografi, fotolitografi, imprint-litografi, tørætsning, vådætsning, tyndfilmsdeponering, spin coating, epitaksi
Anvendelser
Nanoteknologi, nanoelektronik, life science, nanofotonik, mikrofluidik, energilagring, optiske enheder, MEMS
Profil
Vi tilbyder en mikro- og nanofremstillingsplatform til strukturering af en lang række materialer ned til 5 nm på substrat op til 4 tommer i størrelse. Herudover tilvejebringer vi et udvalg af avanceret procesudstyr til litografi, ætsning, tyndfilmdeponering og epitaksi. Endelig har vi ekspertise og forskningsfokus inden for solceller, sensorer, mikrofluidik, nanomarkører og plasmonik.Serviceydelser
Nano- og mikrofremstilling fra makro- til nanoskala.
Tilgængelige teknikker
- Elektronstrålelitografi (EBL)
- Fokus ionstrålelitografi (3 ionstråler)
- UV-fotolitografi
- Fysisk dampdeponering (PVD)
- Silicium tørætsning (ICP-RIE)
- Molekylær stråleepitaksi
Laboratorier og udstyr
Renrum
- Scanner elektronmikroskop Hitachi S-4800, Raith EBL-udvidelse
- Orion NanoFAB, helium-ion-mikroskop, He+, Ne+, Ga+ fokuserede ionstråler
- Mask Aligner, Karl Suss MJB4
- PVD-system Cryofox Explorer 600
- Spin coater RRT Lanz EBS 11
- Adhæsionspromotor Yield YES LP III
- Tørætsning (ICP-RIE) Alcatel AMS110 SE
- Vådætsning
- Plasma Asher LFE 120 Barrel Plasma System
Kontakt
Jacek Fiutowski
Lektor, ph.d.
SDU NanoSYD
Mads Clausen Instituttet
T 6550 1678
fiutowski@mci.sdu.dk