Strukturdannelse

Emneord og anvendelser

Emneord

Nano- og mikrofremstilling, elektronstrålelitografi, fokuseret ionstrålelitografi, fotolitografi, imprint-litografi, tørætsning, vådætsning, tyndfilmsdeponering, spin coating, epitaksi

 

Anvendelser

Nanoteknologi, nanoelektronik, life science, nanofotonik, mikrofluidik, energilagring, optiske enheder, MEMS

Profil

Vi tilbyder en mikro- og nanofremstillingsplatform til strukturering af en lang række materialer ned til 5 nm på substrat op til 4 tommer i størrelse. Herudover tilvejebringer vi et udvalg af avanceret procesudstyr til litografi, ætsning, tyndfilmdeponering og epitaksi. Endelig har vi ekspertise og forskningsfokus inden for solceller, sensorer, mikrofluidik, nanomarkører og plasmonik.

Serviceydelser

Nano- og mikrofremstilling fra makro- til nanoskala.

Tilgængelige teknikker
  • Elektronstrålelitografi (EBL)
  • Fokus ionstrålelitografi (3 ionstråler)
  • UV-fotolitografi
  • Fysisk dampdeponering (PVD)
  • Silicium tørætsning (ICP-RIE)
  • Molekylær stråleepitaksi

Laboratorier og udstyr

Renrum
  • Scanner elektronmikroskop Hitachi S-4800, Raith EBL-udvidelse
  • Orion NanoFAB, helium-ion-mikroskop, He+, Ne+, Ga+ fokuserede ionstråler
  • Mask Aligner, Karl Suss MJB4
  • PVD-system Cryofox Explorer 600
  • Spin coater RRT Lanz EBS 11
  • Adhæsionspromotor Yield YES LP III
  • Tørætsning (ICP-RIE) Alcatel AMS110 SE
  • Vådætsning
  • Plasma Asher LFE 120 Barrel Plasma System

Kontakt

Jacek Fiutowski
Lektor, ph.d.
SDU NanoSYD
Mads Clausen Instituttet

T 6550 1678
fiutowski@mci.sdu.dk